氟化物中氧对Eu2+光谱的影响

• 作者: 冯德雄 刘应亮 石春山
• 来源期刊: 暨南大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 氟化物 氧 铕(Ⅱ) 荧光光谱
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 81-84
• 页数: 4页
• 分类号: O69
• 字数: 1968字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-9965.2000.03.015

摘要

为了考察杂质阴离子对Eu2+光谱的影响,应用光谱方法研究了复合氟化物中氧离子对氟离子的取代与Eu2+光谱变化的关系.结果表明:在KCaF3和BaY2F8基质中,氧的存在产生了Eu2+新的发光中心,其中一种为正常的Eu2+的发射中心,即Eu2+(F-)中心,另一种为氧离子对氟离子取代形成的发射中心,即Eu2+(O2-)中心;对于KCaF3基质,随还原气氛中H2含量的增加,Eu2+(O2-)发射中心强度逐渐降低;对于BaYFP8基质,随还原气氛中H2含量的增加,Eu2+(O2-)发射中心的激发和发射能量向高能方向移动.由于氧在氟化物基质中结合的牢固,即使在完全H2气氛中还原,Eu2+(O2-)新的发光中心也不能完全消除.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯德雄	暨南大学化学系	47	686	12.0	25.0
2	刘应亮	暨南大学化学系	144	1932	24.0	36.0