利用有效媒质理论对纳米金属薄膜介电函数的初步分析

• 作者: 孙超 杜昊 肖金泉 谭明晖 闻立时 黄荣芳
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米薄膜 介电函数 有效媒质理论
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 页码范围: 1165-1168
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|TB43
• 字数: 2118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2000.11.010

摘要

利用有效媒质理论描述了纳米金属薄膜形成过程中介电函数的变化规律.与实验获得的纳米Al和Ti薄膜形成过程中的介电函数变化结果相接近.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
2	黄荣芳	中国科学院金属研究所	37	704	16.0	25.0
3	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
4	杜昊	中国科学院金属研究所	24	169	8.0	11.0
5	肖金泉	中国科学院金属研究所	21	112	7.0	10.0
6	谭明晖	中国科学院金属研究所	6	132	6.0	6.0