微波等离子化学气相沉积金刚石膜涂层氮化硅刀具

• 作者: 余卫华 刘桂珍 周健 汪建华 袁润章
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石涂层刀具 微波等离子化学气相沉积 干切 氮化硅
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 300-304
• 页数: 5页
• 分类号: TQ711|O781
• 字数: 644字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2000.03.018

摘要

金刚石的成核和生长影响金刚石膜的质量.本文用自制的一种新型的不锈钢谐振腔型微波等离子CVD设备,等离子直径为76mm,均匀的温度分布使得金刚石膜均匀生长,在不同工艺条件下研究Si3N4陶瓷刀具上金刚石涂层的成核质量,用SEM,Raman检测和分析研究了在Si3N4刀具上高速高质量生长金刚石膜涂层的制备工艺,并检测了涂层刀具的切削性能,切削试验表明,在切削18wt%Si-Al合金时,金刚石涂层刀具比未涂层刀具的使用寿命增多10倍以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁润章	武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室	47	820	18.0	27.0
2	周健	武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室	13	133	7.0	11.0
3	刘桂珍	武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室	3	24	3.0	3.0
4	余卫华	武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室	3	37	3.0	3.0
5	汪建华	武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室	2	27	2.0	2.0