铝电解电容器阴极箔的后处理和稳定化处理

• 作者: 严季新 田间 邓福祥 阎康平
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 铝电解电容器 阴极铝箔 化学侵蚀 比容
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: TM535+.2
• 字数: 3100字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2000.04.003

摘要

研究硝酸后处理对阴极箔比容的影响和稳定化处理形成氧化膜的机理.硝酸浓度和温度低,侵蚀箔稳定化处理后氧化膜不稳定,容量衰减快.浓度和温度高,侵蚀箔容量损失大,侵蚀箔的初始比容低.加入硫脲和六偏磷酸钠可提高铝箔的初始比容.磷酸和钼酸钠迭加处理使侵蚀箔获得高的初始比容和低的容量衰减率,磷酸处理形成氧化膜可分为AlPO4结构的表面层及AlPO4和部分Al被P代替的水合氧化铝的过渡层.钼酸钠处理形成的氧化膜可分为Al2(MoO4)3结构的表面层及A12(MoO4)3和部分Al被Mo代替的水合氧化铝过渡层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎康平		16	281	9.0	16.0
2	严季新		5	63	3.0	5.0
3	田间		15	40	4.0	5.0
4	邓福祥		2	18	2.0	2.0