掺钛石墨导电性及其微观结构的研究

• 作者: 刘占军 刘朗 张光晋 郭全贵
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 电阻率 掺杂石墨 微观结构
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TB332
• 字数: 2452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-8827.2000.04.009

摘要

研究了不同钛掺杂量的再结晶石墨的电阻率与微观结构,以探讨掺杂组元对材料导电性能的影响.实验结果表明,与相同工艺条件下制得的纯石墨相比,掺钛石墨具有高密、高石墨化程度以及极低的电阻率的特点.微观结构分析表明,钛对材料的石墨化过程中具有催化作用,掺杂石墨材料中钛掺杂量对材料的石墨化程度有很大影响:少量钛掺杂量即可使材料达到高的石墨化程度,过多钛掺杂量不利于其电阻率的的降低.分析表明钛元素在材料中是以碳化钛形式存在,但在制备过程中,有少量钛逸失,从而在材料表面形成孔隙,而这些对材料的性能有不利的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭全贵	中国科学院山西煤炭化学研究所	107	1419	22.0	31.0
2	刘朗	中国科学院山西煤炭化学研究所	203	3170	29.0	43.0
3	刘占军	中国科学院山西煤炭化学研究所	17	132	7.0	11.0
4	张光晋	中国科学院山西煤炭化学研究所	5	56	4.0	5.0