Ni-Cr-Al-Y涂层真空热处理过程中元素的行为

• 作者: 孙超 宫骏 梁越 王冰 王启民 闻立时 韩雅芳 黄荣芳
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Cr-Al-Y涂层 真空热处理 互扩散 微观结构
• 年，卷（期）: 2000,（10）
• 页码范围: 1094-1098
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.15|TG156.95
• 字数: 3876字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2000.10.018

摘要

采用电弧离子镀技术在铸造镍基合金K17和Ni3Al基合金IC-6上沉积Ni-Cr-Al-Y涂层.结果表明,在沉积过程中由于电弧离子镀的"溅射"和"反溅射"效应以及基体和涂层发生互扩散的共同作用下,沉积的Ni-Cr-Al-Y涂层在靠近基体区含有少量基体元素,如Co,Ti和Mo等.K17合金中的Al元素可抑制Cr由涂层向基体扩散.IC-6合金中由于还含有Mo元素,使这种抑制作用进一步增强在1050℃真空热处理时,各元素互扩散能力增强,大量的Cr克服Al和Mo元素的束缚向基体扩散,最终使两种合金上沉积的Ni-Cr-Al-Y涂层中的元素均匀分布.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩雅芳		69	839	16.0	25.0
2	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
3	王冰	中国科学院金属研究所	37	381	11.0	19.0
4	宫骏	中国科学院金属研究所	52	464	12.0	20.0
5	黄荣芳	中国科学院金属研究所	37	704	16.0	25.0
6	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
7	王启民	中国科学院金属研究所	12	149	8.0	12.0
8	梁越	中国科学院金属研究所	2	21	1.0	2.0