石墨层间化合物GICs的形成机理探讨

• 作者: 传秀云
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨层间化合物 插层反应 机理
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 52-56
• 页数: 5页
• 分类号: TQ127.1|TQ165
• 字数: 4139字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-8827.2000.01.011

摘要

将GICs形成过程划分为熔融、活化、扩散和成键等阶段,分析了各阶段反应的主要影响因素,以氯化铜、氯化镍GICs的合成实验为基础,根据SEM对石墨膨胀前后、插层前后的形貌分析,以及膨胀石墨合成GICs反应前后体积变化分析,认为GICs的形成过程中,主要有三个机制起作用:氯化物扩散机制、氯化物和碳原子层之间离子键牵引机制和石墨碳原子层分子键牵引回复机制.在膨胀石墨GICs的合成过程中,除占主导地位的扩散机制外,还存在化学键牵引机制,主要包括碳原子间分子键牵引和碳原子氯化物之间的离子键牵引.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	传秀云	北京大学地质学系	46	337	11.0	16.0