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直流磁控溅射中Ar气压强对TbFeCo磁光薄膜均匀性的影响
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摘要：
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溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响
氮化钛薄膜
磁控溅射
溅射气压
光学性能
制备参数对TbFeCo磁光薄膜性能的影响
磁控溅射
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椭偏光谱
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磁控溅射
磁控溅射对薄膜附着力的影响
磁控溅射
附着力
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期刊影响力
真空
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
开本：
大16开
出版地：
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号：
8-30
创刊时间：
1964
语种：
chi
出版文献量（篇）
2692
总下载数（次）
3
总被引数（次）
12898
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