四配位非晶碳薄膜的研究进展

• 作者: 周友国 魏爱香
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 四配位非晶碳薄膜 制备方法 形成机理 结构和性能 应用前景
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 75-79
• 页数: 5页
• 分类号: TQ127.1+1
• 字数: 3476字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-8827.2000.04.019

摘要

四配位非晶碳薄膜是近年来发展的一种新型宽带隙半导体材料,具有独特的物理和化学特性.本文对四配位非晶碳薄膜的研究意义,制备方法,形成机理,结构和性能表征及应用前景作较全面的介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏爱香		4	23	3.0	4.0
2	周友国		4	17	2.0	4.0