磁控溅射制备择优取向氮化铝薄膜

• 作者: 张聪杰 武海顺 许小红 金志浩
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: AlN薄膜 制备 磁控反应溅射 晶面取向 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 411-413
• 页数: 3页
• 分类号: O611.4|TB43
• 字数: 2195字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2000.04.016

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许小红	山西师范大学化学系	52	298	10.0	13.0
3	武海顺	山西师范大学化学系	126	524	11.0	16.0
4	金志浩	西安交通大学材料学院	325	5024	34.0	51.0
5	张聪杰	山西师范大学化学系	26	127	6.0	10.0