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摘要:
以常规TEM为工具,研究了SiCP/ZL109复合材料中数十个SiC颗粒及其界面,Si优先在SiC表面上形核、长大,形成界面Si,并形成大量SiC/Si界面.靠近SiC界面的Al基体中,普遍存在一层厚度小于1μm的"亚晶铝带",其内有大量位错.SiC与Al、SiC与Si之间虽然没有固定的晶体学位向关系,但是存在下列优先关系:(103)SiC//(111)Al,[110]SiC//[110]Al;(101)SiC//(111)Si;[110]SiC//[11]Si.
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文献信息
篇名 SiCp/ZL109复合材料中SiC的界面行为
来源期刊 复合材料学报 学科 工学
关键词 SiCP/ZL109复合材料 SiC/Al界面 SiC/Si界面 晶体学位向关系 界面Si 亚晶铝带
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 65-70
页数 6页 分类号 TB331|TG111
字数 4689字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3851.2000.01.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 隋贤栋 华南理工大学机电工程系 37 664 15.0 25.0
2 罗承萍 华南理工大学机电工程系 80 1286 19.0 33.0
3 欧阳柳章 华南理工大学机电工程系 39 321 10.0 17.0
4 骆灼旋 华南理工大学机电工程系 10 136 5.0 10.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
SiCP/ZL109复合材料
SiC/Al界面
SiC/Si界面
晶体学位向关系
界面Si
亚晶铝带
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
复合材料学报
月刊
1000-3851
11-1801/TB
16开
北京市海淀区学院路37号
1984
chi
出版文献量(篇)
5272
总下载数(次)
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