自控温室黄瓜茎蔓、叶片生长与有效积温关系的研究

• 作者: 李军 杨秋珍
• 来源期刊: 中国生态农业学报(中英文)
• 关键词: 有效积温荷兰黄瓜茎蔓叶片
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

研究了引进自控温室荷兰黄瓜叶片、茎蔓生长规律及与温室气候环境的关系。结果表明，与黄瓜茎蔓、叶片生长进程关系最密切的因子为12～25℃有效积温；叶片生长对温度反应呈非线性，13～19节位出叶所需12～25℃有效积温最少，平均每长1叶仅需10.6～10.9℃有效积温，比定植～5叶期少1／2以上。其他各节位每出1叶所需积温分别是定植～5叶为29.1℃，5～10叶为15.3℃，10～15叶为11.3℃，15～20叶为10.82℃，20～25叶为12.9℃，各生育期所需12～25℃有效积温较为稳定。在上海地区气候条件下建议采用变温管理方式以提高温度，通过气候环境的合理调控，实现黄瓜低成本生产和增产增收。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李军		66	630	14.0	21.0
2	杨秋珍		17	139	7.0	11.0