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PS版抗碱留膜率与氧化层的关系
PS版抗碱留膜率与氧化层的关系
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
PS版
氧化层
感光层
抗碱留膜率
摘要:
PS版感光层覆盖在版基的氧化层表面,长期以来,人们普遍认为,PS版的抗碱性仅仅与表面的感光层性能有关而与氧化层无关.我们根据大量实验结果,并用计算机进行分子轨道理论计算得出分子三维空间结构,证实:1.显影液可以透过感光层到达氧化层的表面并溶解部分氧化层;2.抗碱留膜率测定结果因版基的不同而不同.由此可得出一系列推论.
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篇名
PS版抗碱留膜率与氧化层的关系
来源期刊
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学科
工学
关键词
PS版
氧化层
感光层
抗碱留膜率
年,卷(期)
2000,(8)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
52-55
页数
4页
分类号
TS802.4
字数
语种
中文
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感光层
抗碱留膜率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
印刷杂志
主办单位:
上海印刷技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-6267
CN:
31-1402/TS
开本:
大16开
出版地:
上海新闸路1209弄60号
邮发代号:
4-464
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
8956
总下载数(次)
0
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