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沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响
沉积速率及相关工艺条件对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜性质的影响
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摘要：
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磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究
薄膜
锐钛矿相
射频磁控溅射
光催化活性
温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
温度
反射率
氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
二氧化钛薄膜
直流反应磁控溅射
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真空科学与技术学报
主办单位：
中国真空学会
出版周期：
月刊
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
邮发代号：
创刊时间：
1981
语种：
chi
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
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