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HgCdTe外延用的CdZnTe衬底研制
HgCdTe外延用的CdZnTe衬底研制
作者:
刘克岳
张健平
张学仁
王金义
赵宏
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
CdZnTe
晶体生长
晶片处理
衬底性能
摘要:
阐述了CdZnTe衬底在红外焦平面阵列探测器研究中的重要性;概括了CdZnTe晶体生长的方法、原理和工艺步骤;分析了影响晶体质量(单晶面积、组分及均匀性、结晶完整性、光电特性)的因素,并提出了与质量相关的控制技术;介绍了CdZnTe衬底制备过程中,晶片处理的工艺和步骤(晶锭的定向切割、单晶划片、极性鉴别、磨抛、腐蚀);报道了目前CdZnTe晶体的性能水平、晶片处理结果和CdZnTe的应用情况.
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文献信息
篇名
HgCdTe外延用的CdZnTe衬底研制
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
CdZnTe
晶体生长
晶片处理
衬底性能
年,卷(期)
2000,(2)
所属期刊栏目
材料研究
研究方向
页码范围
38-42
页数
5页
分类号
TN304.2
字数
6233字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353X.2000.02.012
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘克岳
4
15
2.0
3.0
2
王金义
5
15
2.0
3.0
3
张学仁
1
12
1.0
1.0
4
赵宏
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12
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张健平
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参考文献(1)
二级参考文献(0)
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参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
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2003(3)
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引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
CdZnTe
晶体生长
晶片处理
衬底性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
总被引数(次)
24788
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