相图--解释金属化层稳定性和薄膜反应的热力学方法

• 作者: 岳瑞峰 王燕
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 相图 金属化层稳定性 薄膜反应 热力学方法
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 10-13
• 页数: 4页
• 分类号: O472+.1|O472+.2
• 字数: 3179字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2000.02.003

摘要

介绍了计算相图的起因与发展,综述了利用Gibbs生成自由能数据绘制简化的三元、四元相图的热力学方法,尤其是确定相图中直达连线的思想方法,最后给出了利用相图来解释金属化层稳定性和薄膜反应的应用实例.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	岳瑞峰	清华大学微电子学研究所	67	379	11.0	15.0
2	王燕	西安理工大学电子工程系	2	12	2.0	2.0