高纯等离子体工艺气体中痕量杂质的影响及特性

• 作者: 梁国仑 田波
• 来源期刊: 低温与特气
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体工艺气体 痕量杂质 纯度
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺与设备
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TQ117
• 字数: 3710字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7804.2000.05.008

摘要

如果不详细地了解气源杂质的分布曲线,而只是简单地规定所有气体纯度等级,就不能充分确保优质气体均一地输送到工艺过程中.例举了等离子体刻蚀工艺.