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花菁化合物薄膜的光存储性能
花菁化合物薄膜的光存储性能
作者:
唐晓东
干福熹
顾冬红
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
花菁化合物
薄膜
光存储性能
摘要:
采用旋涂工艺制备了花菁染料薄膜, 测试了薄膜吸收、透过和反射光谱, 通过椭圆偏振光谱计算了薄膜的光学常数. 以该花菁染料薄膜为记录层的可录光盘的动态性能和优化功率测试表明, 光盘的最佳写入功率在7 mW左右, 载噪比(CNR)可达47 dB.利用原子力显微镜观测了以不同功率记录后可录光盘的预刻槽形貌.
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文献信息
篇名
花菁化合物薄膜的光存储性能
来源期刊
光学学报
学科
物理学
关键词
花菁化合物
薄膜
光存储性能
年,卷(期)
2000,(4)
所属期刊栏目
薄膜光学
研究方向
页码范围
560-564
页数
5页
分类号
O4
字数
3813字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-2239.2000.04.024
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
干福熹
中国科学院上海光学精密机械研究所
288
2527
23.0
29.0
2
顾冬红
中国科学院上海光学精密机械研究所
65
551
12.0
19.0
3
唐晓东
中国科学院上海光学精密机械研究所
7
10
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研究主题发展历程
节点文献
花菁化合物
薄膜
光存储性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
0253-2239
CN:
31-1252/O4
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
邮发代号:
4-293
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
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