甲苯-2,4-二异氰酸酯修饰蒙脱土及聚苯乙烯蒙脱土纳米复合材料的制备与表征

• 作者: 漆宗能 陈光明 马永梅
• 来源期刊: 高分子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 蒙脱土 甲苯-2,4-二异氰酸酯 聚苯乙烯 复合材料
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 599-603
• 页数: 5页
• 分类号: TQ32
• 字数: 3202字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3304.2000.05.017

摘要

用FTIR和WAXD法研究了甲苯-2,4-二异氰酸酯(TDI)的邻位和对位异氰酸酯基团与蒙脱土表面羟基的修饰反应,在此基础上提出了结构模型;用TDI修饰后的蒙脱土成功制备了插层型聚苯乙烯/蒙脱土纳米复合材料,并用WAXD和TEM进行了表征.实验结果表明,修饰后TDI与蒙脱土表面形成化学键,使蒙脱土的片层间距显著增大,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)在蒙脱土层间由双层平行排列转变为双层脂肪链倾斜方式排列.在苯乙烯插层聚合过程中,蒙脱土层间距进一步扩大,其初级粒子在聚苯乙烯基体中的厚度约20～50nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈光明	中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验室	39	408	11.0	19.0
2	漆宗能	中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验室	47	2809	24.0	47.0
3	马永梅	中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验室	39	378	9.0	18.0