金刚石表面Cr金属化的界面扩散反应研究

• 作者: 姚文清 曹立礼 朱永法 王莉
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 磁控溅射 金刚石 Cr 界面扩散反应 AES
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 24-26,37
• 页数: 4页
• 分类号: TG731|TG156.8
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2000.01.006

摘要

利用直流磁控溅射法在金刚石颗粒表面沉积了厚度为150nm的金属Cr薄膜.SEM研究表明在金刚石表面形成的Cr膜基本均匀,但有小的金属聚集体存在.俄歇深度剖析研究发现,在镀膜过程中Cr膜和金刚石基底间发生了显著的界面扩散作用.相应的俄歇线形分析表明,沉积过程中在界面上发生化学反应形成了部分Cr2C3物种.溅射沉积功率对金刚石颗粒与金属Cr膜的界面扩散反应有较大的影响.提高溅射功率可大大促进Cr元素的扩散,但对于C元素的扩散作用则影响较小.界面扩散反应的本质是荷能Cr原子与金刚石基底的碰撞注入作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱永法	清华大学化学系	72	1238	21.0	33.0
2	王莉	清华大学化学系	91	815	15.0	24.0
3	姚文清	清华大学化学系	32	302	9.0	16.0
4	曹立礼	清华大学化学系	24	444	10.0	21.0