金属等离子体浸没离子注入技术合成NbN膜

• 作者: 侯君达 宋教花 张涛 邓志威
• 来源期刊: 北京师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铌 金属等离子体 动态离子束增强沉积
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 页码范围: 623-625
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.3
• 字数: 1532字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0476-0301.2000.05.011

摘要

利用无大颗粒的金属等离子体浸没增强沉积技术,在Si基体上进行动态离子束增强沉积NbN,在低温下制成了NbN薄膜.薄膜表面细密光滑,退火前其硬度＞16.8 MN@mm-2,退火后硬度＞16.0 MN@mm-2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张涛	北京师范大学低能核物理研究所	129	353	9.0	13.0
2	邓志威	北京师范大学低能核物理研究所	76	1668	19.0	40.0
3	宋教花	北京师范大学低能核物理研究所	5	25	3.0	5.0
4	侯君达	北京师范大学低能核物理研究所	7	50	4.0	7.0