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集成电路工艺技术及其应用的发展趋势
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摘要：
扼要介绍了通常的硅ＣＭＯＳ、双极和ＢｉＣＭＯＳ技术以及ＧａＡｓ、ＧｅＳｉ技术的发展趋势，同时也介绍了高速集成技术发展中引入的一些新技术。
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路
微电子
MOS
双极
GAAS
BICMOS
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元器件应用
主办单位：
中国电子元件行业协会
出版周期：
月刊
ISSN：
1563-4795
CN：
开本：
大16开
出版地：
西安市科技路37号海星城市广场B座240
邮发代号：
创刊时间：
1999
语种：
chi
出版文献量（篇）
5842
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7
总被引数（次）
11366
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