质量分离低能离子束沉积碳膜及离子轰击效应

• 作者: 刘志凯 廖梅勇 张键辉 李述汤 杨少延 王占国 秦复光
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶碳 离子轰击 质量分离低能离子束
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 2186-2190
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2602字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.11.014

摘要

用质量分离的低能离子束沉积技术得到了非晶碳薄膜,X射线衍射、Raman谱以及俄歇深度谱的线形表明,此种非晶碳膜中镶嵌着金刚石颗粒.碳离子的浅注入是该碳膜SP3形成的主要机理.从一个侧面说明了化学气相沉积法中偏压预处理增加金刚石成核的主要原因是因为离子轰击效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘志凯	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	17	43	4.0	5.0
2	王占国	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	101	701	15.0	23.0
3	李述汤	香港城市大学物理和材料科学系	9	172	5.0	9.0
4	廖梅勇	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	7	15	2.0	3.0
5	杨少延	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	17	35	3.0	5.0
6	秦复光	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	2	3	1.0	1.0
7	张键辉	中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室	1	1	1.0	1.0