氟化物激光晶体 Nd3+:LiYF4的坩埚下降法生长

• 作者: 孙仁英 徐家跃 范世 费一汀 陈红兵
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光晶体 氟化钇锂 氟化处理 晶体生长 坩埚下降法
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 917-920
• 页数: 4页
• 分类号: O782
• 字数: 2302字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2000.05.025

摘要

本文报道了氟化物激光晶体Nd3+: LiYF4的坩埚下降法生长工艺.采用经氟化处理的无水氟化物原料，按照LiF: YF3 = 51.5 : 48.5的比例配料，控制炉体温度于920960C，晶体生长速度为0.40.8 mm/h，通过密闭条件下的坩?埚下降法生长出尺寸为25mm80mm的完整单晶.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈红兵	中国科学院上海硅酸盐研究所	10	59	4.0	7.0
2	徐家跃	中国科学院上海硅酸盐研究所	47	396	12.0	17.0
3	费一汀	中国科学院上海硅酸盐研究所	5	23	3.0	4.0
4	孙仁英	中国科学院上海硅酸盐研究所	5	30	4.0	5.0
5	范世	中国科学院上海硅酸盐研究所	3	9	2.0	3.0