离子束辅助沉积制备的铁锆多层膜中的相演化

• 作者: 丁珉 曾飞 潘峰
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 离子束辅助沉积 非晶薄膜 铁-锆合金
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 19-21,48
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2000.04.006

摘要

研究了用氩离子束辅助沉积(IBAD)技术制备的铁/锆多层膜中的微结构演化规律.实验中所使用的氩离子能量范围为4keV到12keV,束流密度为12 μA/cm2.实验结果表明,用IBAD技术可在富锆端制备出完全非晶化的薄膜.对于Fe(0.54nm)/Zr(4.5nm)多层膜,随Ar离子能量的增加,在薄膜中还观察到晶态-非晶-亚稳fcc相-非晶-晶态的结构转变.对于富铁合金膜,IBAD技术仅能制备部分非晶化的薄膜.