几种参数对磁流变抛光的影响

• 作者: 张峰
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 运动盘 间隙 磁场强度
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺
• 页码范围: 220-221
• 页数: 2页
• 分类号: TH161.1
• 字数: 1166字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2000.03.001

摘要

以所建立的磁流变抛光的数学模型为基础,通过实验研究了抛光时间、运动盘的速度、工件与运动盘形成的间隙大小、磁场强度等参数对磁流变抛光的影响.具体做法是改变磁流变抛光的一种参数,而使其余的参数保持不变,得出该参数与磁流变抛光去除函数关系的曲线图,进而揭示了工件的材料去除函数随该参数的变化规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张峰	中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室	149	3496	30.0	56.0