有色金属表面微弧氧化技术评述

• 作者: 张通和 来永春 薛文斌 邓志威 陈如意
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 火花放电 有色金属
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 2508字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2000.01.001

摘要

微弧氧化是一项在有色金属表面原位生长陶瓷膜的新技术.本文介绍了Al、Mg、Ti金属表面微弧氧化技术的发展历史及氧化物陶瓷膜生长的原理,并比较微弧氧化和阳极氧化技术的工艺及性能特点,显示微弧氧化工艺比阳极氧化简单,氧化膜的综合性能比阳极氧化膜高得多,是一项有广阔应用前景的新技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛文斌	北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心	37	1416	17.0	37.0
2	邓志威	北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心	76	1668	19.0	40.0
3	张通和	北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心	49	1052	11.0	32.0
4	陈如意	北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心	11	1029	10.0	11.0
5	来永春	北京师范大学低能核物理研究所北京市辐射中心	5	533	5.0	5.0