Cr离子注入铜薄膜对氧化物形成特征的影响

• 作者: 王二敏 王晓震 赵新清
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 铜薄膜 离子注入 氧化
• 年，卷（期）: 2000,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 39-40,46
• 页数: 3页
• 分类号: TQ174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2000.08.012

摘要

采用X射线衍射和卢瑟福背散射技术,研究了Cr离子注入铜薄膜对氧化物形成及其演变的影响.结果表明,离子注入改变了薄膜的氧化行为和氧化物结构.离子注入阻碍Cu原子的扩散,并抑制Cu2O向CuO转变,使得铜薄膜表面的氧化物具有层状结构.探讨了注入前后薄膜表面氧化物形成的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王二敏		15	36	3.0	4.0
2	赵新清		8	63	4.0	7.0
3	王晓震		11	22	3.0	3.0