TiN多弧离子镀涂层质量与X射线衍射图谱

• 作者: 叶卫平 孙伟 宫秀敏 朱小清 许大庆
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: TiN离子镀 X射线衍射图 择优取向 涂层质量
• 年，卷（期）: 2000,（7）
• 所属期刊栏目: 工艺
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2942字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2000.07.014

摘要

对TiN多弧离子镀涂层的质量和性能进行了试验与分析.试验结果表明:涂层的质量和性能与X射线衍射图谱之间存在着对应关系.在X射线衍射图谱中具有强烈TiN(111)择优取向的涂层表面光亮、结合强度高、硬度高、耐磨性好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙伟	武汉汽车工业大学材料学院	9	212	7.0	9.0
2	宫秀敏	武汉汽车工业大学材料学院	9	212	7.0	9.0
3	叶卫平	武汉汽车工业大学材料学院	9	224	7.0	9.0
4	朱小清		10	188	7.0	10.0
5	许大庆		6	106	5.0	6.0