多弧离子镀用于制备高质量的Ti-N膜

• 作者: 徐新乐
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 膜层 多弧离子镀 Ti-N膜 硬度
• 年，卷（期）: 2000,（8）
• 所属期刊栏目: 离子镀技术
• 页码范围: 28-30
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2830字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2000.08.015

摘要

研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数(磁场、弧电流、偏压和氮气流量)对膜层质量的影响，详细分析了它们影响膜层特性的原因。实验证明，提高弧电流的同时抑制液滴的产生，是提高膜层质量和生产效率的有效途径。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐新乐		19	62	3.0	7.0