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微波低噪声SiGe HBT的研制
微波低噪声SiGe HBT的研制
作者:
张进书
林惠旺
贾宏勇
钱伟
钱佩信
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
HBT
SiGe
微波
低噪声EEACC:2560B
2560J
摘要:
利用3μm工艺条件制得SiGe HBT(Heterojunction Bipolar Transistor),器件的特征频率达到8GHz.600MHz工作频率下的最小噪声系数为1.04dB,相关功率增益为12.6dB,1GHz工作频率下的最小噪声系数为1.9dB,相关功率增益为9dB,器件在微波无线通信领域具有很大的应用前景.
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篇名
微波低噪声SiGe HBT的研制
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
HBT
SiGe
微波
低噪声EEACC:2560B
2560J
年,卷(期)
2000,(5)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
445-450
页数
5页
分类号
TN322+.6
字数
2430字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2000.05.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
林惠旺
清华大学微电子所
18
150
8.0
11.0
2
钱佩信
清华大学微电子所
29
158
7.0
11.0
3
贾宏勇
清华大学微电子所
10
86
5.0
9.0
4
张进书
清华大学微电子所
3
28
2.0
3.0
5
钱伟
清华大学微电子所
4
28
2.0
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1993(2)
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二级引证文献(0)
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2011(4)
引证文献(1)
二级引证文献(3)
2012(3)
引证文献(1)
二级引证文献(2)
2013(2)
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2014(1)
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二级引证文献(0)
2015(1)
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二级引证文献(1)
2018(3)
引证文献(1)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
HBT
SiGe
微波
低噪声EEACC:2560B
2560J
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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