纳米光刻技术

• 作者: 严佩英 冯伯儒 姚汉民 罗先刚 陈旭南
• 来源期刊: 物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米光刻 波前工程 电子束光刻 离子束光刻 X射线光刻 原子光刻 干涉光刻 极紫外光刻 157光刻 126光刻
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 所属期刊栏目: 物理学和高新技术
• 页码范围: 358-363,350
• 页数: 7页
• 分类号: O4
• 字数: 8191字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0379-4148.2000.06.008

摘要

纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心.纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一,其制作技术是整个纳米技术的核心基础,已成为当前世界科学研究急需解决的问题.文章针对目前的科技发展情况,介绍了几种纳米光刻技术的实现新途径、发展现状和关键问题.详细阐述了波前工程、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻以及157光刻的原理和实现难点.作为下一代各种光刻技术,它们都有望实现纳米量级的图形,但各种技术可实现的分辨力极限有所不同.50nm以上分辨力可以用193nm光刻结合波前工程和干涉光刻实现.50nm左右的分辨力可用极紫外光刻、157光刻和126nm光刻实现.而电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、原子光刻则可望实现几个纳米的分辨力.但是这些技术的完善还有待于诸如光学系统、抗蚀剂、精密控制等等相关技术的成熟.文章还讨论了纳米光刻技术的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚汉民	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	44	355	9.0	16.0
2	陈旭南	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	39	212	9.0	13.0
3	冯伯儒	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	30	293	9.0	16.0
4	罗先刚	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	52	315	9.0	15.0
5	严佩英	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	3	48	3.0	3.0