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摘要:
介绍了将离子枪组合于卢瑟福背散射分析靶室中构成Sputtering/RBS原位分析实验装置,用低能离子溅射剥层与高能离子背散射组合对薄膜样品进行成分和深埋层分析方法.给出了对样品分析的三个例子.对Au/Si样品的分析着重讨论了Au在Ar+溅射剥层时的溅射速率;对Si/Ge-Si/Si和WSix/SiO2/Si样品的深埋层分析,提高了样品分析的深度分辨率.讨论了这一Sputtering/RBS组合分析方法的优缺点和在薄膜材料研究中可能的应用.
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文献信息
篇名 用低能离子溅射剥层和高能离子背散射组合方法进行薄膜原位分析
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 164-169
页数 6页 分类号 O4
字数 4187字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.01.035
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵国庆 复旦大学现代物理研究所基于加速器的原子物理和原子核物理实验室 11 83 5.0 9.0
2 姜蕾 复旦大学现代物理研究所基于加速器的原子物理和原子核物理实验室 3 6 1.0 2.0
3 周筑颖 复旦大学现代物理研究所基于加速器的原子物理和原子核物理实验室 9 54 5.0 7.0
4 贺勉鸿 复旦大学现代物理研究所基于加速器的原子物理和原子核物理实验室 4 1 1.0 1.0
5 刘波 复旦大学现代物理研究所基于加速器的原子物理和原子核物理实验室 20 89 7.0 9.0
6 宗祥福 复旦大学材料科学系 39 315 11.0 16.0
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物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
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