化学气相沉积传质现象的研究与反应器设计、工艺参数的优化

• 作者: 刘正堂 赵康 郑修麟 鄢君辉
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 传质现象 沉积速率
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 13-15
• 页数: 3页
• 分类号: TB3
• 字数: 2916字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2000.03.006

摘要

介绍了化学气相沉积(CVD)中的传质现象研究的最新进展,从传质方程的建立到边界条件确定都进行了详细的介绍,并举例说明了数值分析的结果对反应器设计与工艺参数的优化的指导作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鄢君辉	西北工业大学材料科学与工程学院	34	286	10.0	15.0
2	郑修麟	西北工业大学材料科学与工程学院	44	293	10.0	14.0
3	刘正堂	西北工业大学材料科学与工程学院	120	749	14.0	21.0
4	赵康		101	737	16.0	22.0