PCVD法制高Si钢片的研究

• 作者: 吴新杰 李平生 王蕾 陈大凯
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 硅钢 PCVD 沉积
• 年，卷（期）: 2000,（12）
• 所属期刊栏目: 新工艺
• 页码范围: 27-29
• 页数: 3页
• 分类号: TG156.8
• 字数: 1079字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2000.12.012

摘要

一般软磁硅钢含硅量小于3.5%,超过此限则难于加工.为了提高硅钢的磁性,除通过冷轧提高硅钢织构度外,最有效的方法是提高钢片硅含量,达6.5%Si为最佳.由于超过3.5%Si含量的钢,无法轧制成薄片.为此用等离子体化学气相沉积方法(the Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),在0.1～0.3mm厚的普通硅钢片表面涂硅,再进行短时间高温扩散,使硅钢平均含硅量可达6.5%,磁性能超过或达到冷轧取向硅钢水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴新杰	武汉科技大学材料与冶金系	22	234	9.0	14.0
2	王蕾	武汉科技大学材料与冶金系	70	385	12.0	15.0
3	陈大凯	武汉科技大学材料与冶金系	10	99	5.0	9.0
4	李平生	武汉科技大学材料与冶金系	15	61	4.0	7.0