偶氮染料掺杂高分子薄膜的光学常数

• 作者: 侯立松 干福熹 李晶 王光斌
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 偶氮染料 高分子薄膜 椭圆偏振光谱 吸收光谱
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 353-357
• 页数: 5页
• 分类号: O43
• 字数: 2868字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2000.04.014

摘要

在单晶硅片上,以旋涂(Spin-Coating)法制备了推-拉型偶氮染料掺杂高分子(PMMA)薄膜,其中二甲基胺基[N(CH3)2]作为推电子基团,羧基(COOH)作为拉电子基团.利用椭圆偏振光谱和吸收光谱,研究了薄膜的复折射率、复介电函数和吸收系数,分析了影响薄膜电子光谱的因素.结果表明,该薄膜在400～600 nm波长范围内,存在强而宽的吸收,并发现染料分子的聚集状态对其吸收光谱有较大的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干福熹	中国科学院上海光机所	288	2527	23.0	29.0
2	李晶	中国科学院上海光机所	127	2691	28.0	50.0
3	王光斌	中国科学院上海光机所	5	47	3.0	5.0
4	侯立松	中国科学院上海光机所	43	407	13.0	18.0