离子束溅射制备立方C-N化合物

• 作者: 于栋利 何巨龙 李东春 李林 王天生 田永君
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: C-N化合物 离子束溅射
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 页码范围: 1201-1204
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TB321
• 字数: 2192字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2000.11.019

摘要

用氮离子束分别原位溅射Ti和石墨靶的方法制备了CNx/TiNy多层膜.用X射线光电子谱分析CNx层中C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明,CNx层中主要有N-sp2C和N-sp3C两种键合状态,薄膜中观察到的C-N化合物尺寸为10-60 nm的晶体颗粒,其衍射数据可用立方C3N4结构标定,证实了该薄膜中存在立方C3N4化合物

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李林	中国科学院物理研究所	89	1043	18.0	31.0
2	王天生	燕山大学材料科学与化学工程学院	31	241	9.0	14.0
6	田永君	燕山大学材料科学与化学工程学院	33	164	7.0	11.0
8	李东春	燕山大学材料科学与化学工程学院	24	116	6.0	9.0
9	于栋利	燕山大学材料科学与化学工程学院	23	79	5.0	7.0
10	何巨龙	燕山大学材料科学与化学工程学院	19	83	6.0	8.0