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摘要:
用磁控反应溅射法制备了ZnO:Al(简称ZAO)薄膜,研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌,并对ZnO:Al薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了XPS和AES分析,同时也讨论了薄膜的光学电学性能.
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文献信息
篇名 透明导电氧化物ZnO:Al(ZAO)薄膜的研究
来源期刊 金属学报 学科 工学
关键词 ZnO:Al薄膜 电阻空间分布 光电性能
年,卷(期) 2000,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 72-76
页数 5页 分类号 TG113|O484|TN304.21
字数 2864字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0412-1961.2000.01.017
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孙超 中国科学院金属研究所 126 1708 23.0 34.0
2 黄荣芳 中国科学院金属研究所 37 704 16.0 25.0
3 闻立时 中国科学院金属研究所 117 1859 24.0 36.0
4 裴志亮 中国科学院金属研究所 19 425 12.0 19.0
5 陈猛 中国科学院金属研究所 19 341 8.0 18.0
6 谭明晖 中国科学院金属研究所 6 132 6.0 6.0
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO:Al薄膜
电阻空间分布
光电性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
金属学报
月刊
0412-1961
21-1139/TG
大16开
沈阳文化路72号
2-361
1956
chi
出版文献量(篇)
4859
总下载数(次)
9
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