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摘要:
用数值计算方法详细地模拟了VLSI电路中金属互连线的延迟及串扰.模拟结果表明:互连线宽W同互连线节距P之比W/P=0.5~0.6是获得最小时间延迟并满足串扰限制的最佳尺寸,模拟还给出了用铜代替铝金属线及用low-k电介质(εlow-k=0.5εSiO2)代替SiO2后,延迟及串扰的改善程度.
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文献信息
篇名 VLSI电路中互连线的延迟及串扰的数值模拟
来源期刊 电子学报 学科 工学
关键词 大规模集成电路 延迟 串扰
年,卷(期) 2000,(5) 所属期刊栏目 科研通信
研究方向 页码范围 142-144
页数 3页 分类号 TN405.97
字数 1938字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0372-2112.2000.05.044
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 阮刚 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 15 116 6.0 10.0
2 肖夏 Chemnitz技术大学微技术中心 4 41 4.0 4.0
3 Reinhard Streiter Chemnitz技术大学微技术中心 3 23 3.0 3.0
4 宋任儒 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 5 25 3.0 5.0
5 Thomas Otto Chemnitz技术大学微技术中心 3 23 3.0 3.0
6 Thomas Gessner Chemnitz技术大学微技术中心 3 23 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
大规模集成电路
延迟
串扰
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子学报
月刊
0372-2112
11-2087/TN
大16开
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2-891
1962
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