烷氧基键合的VO3+腙配合物的合成和晶体结构及氧化还原性质研究

• 作者: 刘世雄 高山
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 钒酰配合物 腙 晶体结构 氧化还原性质
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 页码范围: 671-674
• 页数: 4页
• 分类号: O614
• 字数: 2944字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2000.05.003

摘要

合成了配合物VO(L)(CH3O)(CH3OH)(H2L为水杨醛苯甲酰腙), 并对其进行了元素分析, IR, UV, 1H NMR, CV和单晶X射线衍射实验. 晶体属单斜晶系, P21/c空间群, 晶胞参数a=0.816 1(1) nm, b=1.694 6(2) nm, c=1.223 2(1) nm, β=104.274(9), V=1.639 4(3) nm3, Mr=368.26, Z=4. 三齿腙配体中的2个氧原子和1个氮原子均与钒原子配位并形成赤道平面, 钒原子具有扭曲的八面体配位构型. 电化学研究表明, 配合物的氧化还原电位E1/2按CH2Cl2＜CH3CN＜DMF的顺序向正电位方向移动.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘世雄	福州大学化学系	39	249	9.0	13.0
2	高山	福州大学化学系	97	588	12.0	19.0