磁粒光整加工材料去除规律研究

• 作者: 方建成 金洙吉
• 来源期刊: 华中理工大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 光整加工 磁粒 磁场力 切削力 去除规律
• 年，卷（期）: 2000,（11）
• 页码范围: 85-87
• 页数: 3页
• 分类号: TG580.68
• 字数: 2053字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2000.11.031

摘要

分析磁粒在界面的磁场力，建立切削力数学模型，研究磁粒切削过程中材料的去除规律.以平面磁粒光整加工为例，通过单因素法实验分析填充率、粒径及磁极形状对去除量的影响，并对磁场力进行模拟测量.实验结果与理论解析相吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金洙吉		105	1334	18.0	32.0