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摘要:
分析磁粒在界面的磁场力,建立切削力数学模型,研究磁粒切削过程中材料的去除规律.以平面磁粒光整加工为例,通过单因素法实验分析填充率、粒径及磁极形状对去除量的影响,并对磁场力进行模拟测量.实验结果与理论解析相吻合.
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文献信息
篇名 磁粒光整加工材料去除规律研究
来源期刊 华中理工大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 光整加工 磁粒 磁场力 切削力 去除规律
年,卷(期) 2000,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 85-87
页数 3页 分类号 TG580.68
字数 2053字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1671-4512.2000.11.031
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 金洙吉 105 1334 18.0 32.0
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研究主题发展历程
节点文献
光整加工
磁粒
磁场力
切削力
去除规律
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
华中科技大学学报(自然科学版)
月刊
1671-4512
42-1658/N
大16开
武汉市珞喻路1037号
38-9
1973
chi
出版文献量(篇)
9146
总下载数(次)
26
总被引数(次)
88536
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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