化学镀铜液中铜离子型体分布和络合剂的作用

• 作者: 周东祥 张道礼 龚树萍
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀铜 离子型体分布 络合剂 作用
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 电(化学)镀
• 页码范围: 3-4
• 页数: 2页
• 分类号: TQ153.1+4
• 字数: 1051字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2000.04.002

摘要

用热力学平衡方法研究了BaTiO3系陶瓷作PTCR化学沉积金属电极时在酒石酸盐-铜离子和乙二胺四乙酸钠盐-铜离子体系化学镀铜溶液中各种型体铜离子的分布状况.结果表明,酒石酸盐和乙二胺四乙酸钠盐络合剂会使化学镀铜速度明显下降,其可能的原因是空间位阻.研究表明,选择合适的络合剂对于化学镀铜的稳定操作十分重要.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龚树萍	华中理工大学电子科学与技术系	23	390	11.0	19.0
2	周东祥	华中理工大学电子科学与技术系	33	486	13.0	21.0
3	张道礼	华中理工大学电子科学与技术系	9	162	8.0	9.0