高温处理对CNx薄膜晶化的影响

• 作者: 宋力昕 江伟辉 田静芬 肖兴成 胡行方
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 173-176
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2520字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.01.037

摘要

利用直流磁控溅射制得非晶态氮化碳膜,然后在高温下、常压N气氛中进行热处理,利用DTA,XRD和Auger研究晶化前后氮化碳成分、结构以及键态的变化.实验结果表明:在1186℃附近出现了晶化现象,高温晶化处理可以促进无定形氮化碳向晶态转变,在XRD图谱上出现α-C3N4衍射峰.Auger实验结果表明膜中出现富C,Si,N的区域.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋力昕	中国科学院上海硅酸盐研究所	51	585	15.0	22.0
2	胡行方	中国科学院上海硅酸盐研究所	62	2055	24.0	44.0
3	肖兴成	中国科学院上海硅酸盐研究所	9	195	8.0	9.0
4	江伟辉	中国科学院上海硅酸盐研究所	10	220	8.0	10.0
5	田静芬	中国科学院上海硅酸盐研究所	2	18	2.0	2.0