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光照下高电子迁移率晶体管特性分析
光照下高电子迁移率晶体管特性分析
作者:
吕永良
周世平
徐得名
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
高电子迁移率晶体管
光压
电荷控制模型
二维电子气
摘要:
以光照下耗尽型AlGaAs/GaAs高电子迁移率晶体管为例,考虑了光生载流子对半导体内电荷密度的影响和光压效应,采用器件的电荷控制模型,分析了光照对器件夹断电压、二维电子气浓度、I-V特性以及跨导的影响.与无光照的情况相比较,夹断电压变小,二维电子气浓度增大,从而提高了器件的电流增益,增大了跨导.
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文献信息
篇名
光照下高电子迁移率晶体管特性分析
来源期刊
物理学报
学科
物理学
关键词
高电子迁移率晶体管
光压
电荷控制模型
二维电子气
年,卷(期)
2000,(7)
所属期刊栏目
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向
页码范围
1394-1399
页数
6页
分类号
O4
字数
3944字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2000.07.037
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
周世平
上海大学物理系
35
291
9.0
16.0
2
徐得名
上海大学通信工程系
40
394
11.0
18.0
3
吕永良
上海大学物理系
2
2
1.0
1.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献
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(0)
2000(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2005(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2014(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
高电子迁移率晶体管
光压
电荷控制模型
二维电子气
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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