射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究

• 作者: 冯博学 王君 蒋生蕊 谢亮 陈光华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: NiOxHy膜 电致变色
• 年，卷（期）: 2000,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 2066-2071
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 2641字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2000.10.033

摘要

研究了射频溅射制备的NiOx膜的电致变色性能,发现富氧非理想化学配比的NiOx(x>1)膜具有变色活性,这种膜出现Ni3+和Ni2+的混合价态,当H+注入并占据Ni空位时,导致Ni3+的t2g能级被填满,Ni3+被阴极还原为Ni2+引起光学透明,即为漂白态;反之,H+被萃取出NiOx膜,导致Ni2+的t2g能级出现空穴,Ni2+被氧化为Ni3+引起光吸收,则为着色态.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王君	兰州大学物理系	31	381	10.0	19.0
2	陈光华	兰州大学物理系	5	73	5.0	5.0
3	冯博学	兰州大学物理系	15	233	8.0	15.0
4	蒋生蕊	兰州大学物理系	6	72	4.0	6.0
5	谢亮	兰州大学物理系	6	32	4.0	5.0