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摘要:
报道了采用邻苯三酚红修饰碳糊电极测定痕量铋的方法.在0.30 mol/L的HCl溶液中,于-0.10 V搅拌富集3 min,然后在-0.35 V静止还原60 s,再进行阳极化扫描,在-0.10 V左右获得灵敏的铋溶出峰,二次导数峰电流与铋浓度在1.0×10-9~6.0×10-7 mol/L范围内呈线性关系,检出限为5×10-10 mol/L.对电极反应机理进行了讨论.
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文献信息
篇名 邻苯三酚红修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量铋
来源期刊 分析化学 学科 化学
关键词 邻苯三酚红 碳糊修饰电极 吸附伏安法
年,卷(期) 2000,(12) 所属期刊栏目 研究简报
研究方向 页码范围 1527-1530
页数 4页 分类号 O65
字数 2316字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-3820.2000.12.019
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李益恒 湘潭大学化学系 36 189 9.0 12.0
2 郭会时 韶关大学化学系 1 12 1.0 1.0
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邻苯三酚红
碳糊修饰电极
吸附伏安法
研究起点
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期刊影响力
分析化学
月刊
0253-3820
22-1125/O6
大16开
长春人民大街5625号
12-6
1972
chi
出版文献量(篇)
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112365
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