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摘要:
为了降低Ⅲ族氮化物材料和器件的成本,必须开发大尺寸的Ⅲ族氮化物MOVPE生长的反应器.本文报道了EMCORE公司的一种带有旋转盘的立式反应器,其中的衬底片载盘直径为325mm.每次沉积过程中,载盘上可以放置21片2英寸直径的衬底片.反应器的内壁通过水冷,其温度可保持在50~60℃之间.衬底片可用电热丝加热,沉积中衬底载盘的旋转速度可达1 000~1 500rpm.本文给出了用这种325mm GaN生长系统生长的未掺杂GaN,InGaN和p-GaN外延层的相关结果.这些结果表明,这种旋转盘的反应器是一种很适合大尺寸载盘的系统,完全满足Ⅲ族氮化物材料体系生长的要求.与在小反应器中生长的材料相比,用这种大反应器生长的材料具有相同的质量.这种325mm的GaN反应器将使制备蓝光和绿光LED所用的Ⅲ族氮化外延材料的生产成本得到显著的降低.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 用大面积立式旋转盘MOVPE反应器生长Ⅲ族氮化物材料
来源期刊 发光学报 学科 工学
关键词 Ⅲ族氮化物材料 MOVPE外延生长 立式旋转盘反应器
年,卷(期) 2001,(z1) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 95-98
页数 4页 分类号 TN312.8
字数 1495字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-7032.2001.z1.023
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研究主题发展历程
节点文献
Ⅲ族氮化物材料
MOVPE外延生长
立式旋转盘反应器
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
月刊
1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
chi
出版文献量(篇)
4336
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7
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29396
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