单分散二氧化硅超细颗粒的制备

• 作者: 刘会洲 唐芳琼 方小龙 杨传芳 王玲玲
• 来源期刊: 过程工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化硅 反胶团 超细颗粒 正硅酸乙酯 Stober方法 单分散
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 所属期刊栏目: 过程与工艺
• 页码范围: 167-172
• 页数: 6页
• 分类号: TQ127|2
• 字数: 3730字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1009-606X.2001.02.012

摘要

利用3种不同类型的表面活性剂反胶团体系制备SiO2超细颗粒,并与传统的Stober制备方法进行了对比,在阴离子表面活性剂AOT和非离子表面活性剂TritonX-100两类体系中,得到了单分散的SiO2超细颗粒,在AOT体系中颗粒粒径随体系水含量w.的增大而增大;而TritonX-100体系中,颗粒粒径随w.的增大而减小;在阳离子表面活性剂(如CTAB,TOMAC)体系中无法得到SiO2超细颗粒,对不同体系所得颗粒的粒径标准偏差及粒度分布进行了对比,结果表明制备粒径小于100 nm的SiO2颗粒,反胶团法明显优于Stober方法,粒径相对标准偏差较低,而对粒径大于100nm的颗粒,Stober方法仍不失为一种很好的制备途径

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐芳琼	中国科学院感光所	63	1592	22.0	38.0
2	刘会洲	中国科学院化工冶金研究所分离科学与工程青年实验室	119	2137	25.0	43.0
3	王玲玲	中国科学院化工冶金研究所分离科学与工程青年实验室	22	390	10.0	19.0
4	方小龙	中国科学院化工冶金研究所分离科学与工程青年实验室	2	140	2.0	2.0
5	杨传芳	中国科学院化工冶金研究所分离科学与工程青年实验室	8	172	5.0	8.0