分子镀法制备Ba靶

• 作者: 何建军 徐岩冰 李英俊 杨维凡 潘强岩 肖永厚 袁双贵
• 来源期刊: 同位素
• 学科: 化学
• 关键词: 分子镀 Ba靶 电流密度 沉积效率
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 184-187
• 页数: 4页
• 分类号: O614.35|O646.54
• 字数: 2349字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7512.2001.03.011

摘要

用铂丝作阳极,不锈钢底衬作阴极,在异丙醇-盐酸介质中制备Ba靶.对影响Ba电镀的因素--电镀时间和电流密度进行了探讨.通过高纯锗探测器测量133Ba示踪剂的活性确定Ba的电沉积效率.结果表明,电流密度为4.0～6.0 mA/cm2时,通过分子镀沉积30 min可在不锈钢片上获得均匀、牢固的Ba镀层,其厚度为0.5～1.0 mg/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁双贵	中国科学院近代物理研究所	56	41	3.0	4.0
2	徐岩冰	中国科学院近代物理研究所	54	41	3.0	4.0
3	杨维凡	中国科学院近代物理研究所	54	38	3.0	4.0
4	肖永厚	中国科学院近代物理研究所	16	75	4.0	8.0
5	何建军	中国科学院近代物理研究所	18	61	3.0	7.0
6	潘强岩	中国科学院近代物理研究所	9	16	2.0	4.0
7	李英俊	中国科学院近代物理研究所	3	1	1.0	1.0