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摘要:
介绍了真空灭弧室的基本结构,触头设计,触头材料,高电压设计的要点和制造工艺等。指出了真空灭弧室设计正向着小型化和高电压方向发展。
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文献信息
篇名 真空灭弧室设计和制造工艺概述与发展方向
来源期刊 真空电子技术 学科 工学
关键词 真空灭弧室 设计 制造工艺
年,卷(期) 2001,(3) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 23-25
页数 3页 分类号 TB756
字数 2054字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2001.03.006
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作者信息
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1 王季梅 103 845 16.0 25.0
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研究主题发展历程
节点文献
真空灭弧室
设计
制造工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
出版文献量(篇)
2372
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8712
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